5 de septiembre - 9 de septiembre 2022 (Plazo de inscripción cerrado)
Directora del curso: Prof. Dra. Isabel Montero Herrero (ICMM-CSIC)
Las espectroscopías de fotoelectrones (XPS) y electrones Auger (AES) son insustituibles para el análisis cuantitativo no destructivo de superficies de materiales y permiten obtener información sobre la composición, estado químico, y estructura electrónica. En muchos casos se puede obtener información estructural a corto alcance.
XPS y AES son técnicas sensibles únicamente a las primeras capas atómicas de la superficie. Combinadas con la erosión monocapa a monocapa por pulverización catódica (sputtering) permiten obtener perfiles de concentración de recubrimiento finos.
Se tratará también las aplicaciones de la luz sincrotrón a la caracterización de los materiales.
La realización de prácticas incluye el experimento completo con uso del instrumento (espectrómetro) y análisis de los resultados.
Calendario
5 de septiembre - 9 de septiembre 2022
Horario: 10:00-13:30h.
Lugar de celebración:
Salón de actos del ICMM-CSIC.
Profesores
Dra. Isabel Montero Herrero. Profesor de Investigación del CSIC
Dr. Yves Huttel. Científico Titular del CSIC
Dr. Manuel Izquierdo, European XFEL
Perfil del alumno tipo, formación académica: Licenciados/grado en físicas, químicas, arquitecturas o ingenierías
-- Temas Avanzados --
1. Introducción
Fotoemisión y emisión Auger. Espectroscopias XPS y AES. Instrumental. Análisis cualitativo y cuantitativo. Perspectivas e historia. Relación con otras técnicas. Instrumentación.
2. Espectroscopia de la fotoemisión de rayos-X, XPS
Principales estructuras de los espectros. Corrimiento químico, transferencia de carga e ionicidad. Relajación extra-atómica. Pérdidas intrínsecas y extrínsecas. Forma de las estructuras y su análisis. Efectos químicos y estructurales.
3. Emisión Auger en XPS
Transiciones Auger, clasificación, energías, probabilidades. Corrimientos químicos. Parámetro Auger. Forma de las estructuras y su análisis. Efectos químicos y estructurales.
4. Instrumentación XPS
Analizadores. Transmisión. Calibración. Métodos experimentales. Demostración en el Laboratorio.
5. Análisis cuantitativo XPS
Señal intrínseca y pérdidas extrínsecas. Secciones eficaces. Longitud de atenuación. Sensibilidad a la superficie. Referencias internas. Factores de sensibilidad. Efectos de matriz. Efectos químicos y estructurales. Perfiles de concentración no destructivos de la capa analizada. Limitaciones.
6. XPS de la banda de valencia
Estructura electrónica y XPS.
7. XPS resuelto en ángulo
8. Espectroscopía de la emisión Auger excitada por electrones AES
Instrumentación. Efectos del haz de electrones. Secciones eficaces de ionización.
9. Análisis cuantitativo AES
Efectos del haz de electrones. Muestras de referencia. Efectos de matriz. Efectos químicos y estructurales. Limitaciones.
10. Instrumentación AES
Métodos experimentales. Demostración en el Laboratorio.
11. Perfiles de concentración con XPS y AES
12. Análisis cuantitativo de nano-estructuras con XPS y AES
13. Radiación sincrotrón
Efectos de difracción. Últimos avances en técnicas de fotoemisión.
14. Resolución lateral e imágenes en XPS y AES
15. Análisis XPS y AES de materiales aislantes
16. Efectos del haz de excitación en XPS y AES
-- Prácticas --
Instrumentación. Demostración en el Laboratorio.
Determinación de la composición química y estado químico de los elementos de muestras de interés científico e industrial.
-- Secretaría del curso --
INSTITUTO DE CIENCIA DE MATERIALES DE MADRID. CSIC
Teléfono: 913349085
Fax: 913720623
@email
Plazo de inscripción cerrado
