REACCIÓN HOMOGÉNEA Y HETEROGÉNEA

Las reacciones de CVD se suelen clasificar en homogéneas y no homogéneas (o heterogéneas), según que la reacción se produzca en la fase gaseosa o en contacto con la superficie del substrato que se pretende recubrir, respectivamente. Las reacciones homogéneas dan lugar a la formación de partículas de diámetro muy pequeño (decenas o centenas de nanómetros) que se depositan por gravedad sobre el substrato y otras zonas del reactor e incluso a lo largo de las líneas de evacuación, ya que pueden ser arrastradas por los gases de salida. Las reacciones no homogéneas son las que dan lugar a la formación de una película o capa sobre el substrato y las paredes del reactor.

Para una reacción dada, generalmente ocurren los dos tipos de reacción, aunque una puede predominar sobre la otra. Así, cuando se pretende obtener un recubrimiento de espesor homogéneo en forma de película delgada sobre un substrato es preciso de un lado, favorecer la reacción heterogénea, es decir, la que se verifica en contacto con la superficie, y por otro, inhibir la reacción homogénea. Esto se puede conseguir disminuyendo la presión de los gases en el interior del reactor para reducir la probabilidad de colisión entre las moléculas en la fase gas. De esta forma se evita la formación de partículas que finalmente pueden depositarse sobre la superficie del substrato, impidiendo el crecimiento posterior de la película en ese punto. Por contra, a menudo se presentan casos en los que se pretende obtener el material en forma de polvo, como ocurre por ejemplo en la síntesis de materiales cerámicos. En estas circunstancias, obviamente es preciso favorecer la reacción homogénea sobre la no homogénea.