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Cursos

 

Espectroscopías de Fotoelectrones y Electrones Auger (XPS y AES)

14 de septiembre - 18 de septiembre 2015

Directora del curso: Prof. Dra. Isabel Montero Herrero (ICMM-CSIC)

Las espectroscopías de fotoelectrones (XPS) y electrones Auger (AES) son insustituibles para el análisis cuantitativo no destructivo de superficies de materiales y permiten obtener información sobre la composición, estado químico, y estructura electrónica. En muchos casos se puede obtener información estructural a corto alcance.


XPS y AES son técnicas sensibles únicamente a las primeras capas atómicas de la superficie. Combinadas con la erosión monocapa a monocapa por pulverización catódica (sputtering) permiten obtener perfiles de concentración de recubrimiento finos.


Se tratará también las aplicaciones de la luz sincrotrón a la caracterización de los materiales.


La realización de prácticas incluye el experimento completo con uso del instrumento (espectrómetro) y análisis de los resultados.

 

Calendario

14 de septiembre - 18 de septiembre 2015
Horario: 10:00-13:30h.

Lugar de celebración:
Sala de seminarios del ICMM-CSIC.
1ª planta, edificio A.

 

Profesores

Dra. Isabel Montero Herrero
Profesor de Investigación del CSIC ( ICMM-CSIC)
Dra. Mª. Eugenia Dávila Benítez
Científico Titular del CSIC ( ICMM-CSIC)
Dr. Luis Galán Estella
Catedrático, UAM

 

Perfil del alumno tipo, formación académica

Licenciados/grado en físicas, químicas, arquitecturas o ingenierías

 

Inscripción

Inscripción hasta el 9 de septiembre de 2015
Plazas limitadas

Formulario de inscripción

 

Temas Avanzados

1. Introducción

Fotoemisión y emisión Auger. Espectroscopias XPS y AES. Instrumental. Análisis cualitativo y cuantitativo. Perspectivas e historia. Relación con otras técnicas. Instrumentación.

 

2. Espectroscopia de la fotoemisión de rayos-X, XPS

Principales estructuras de los espectros. Corrimiento químico, transferencia de carga e ionicidad. Relajación extra-atómica. Pérdidas intrínsecas y extrínsecas. Forma de las estructuras y su análisis. Efectos químicos y estructurales.

 

3. Emisión Auger en XPS

Transiciones Auger, clasificación, energías, probabilidades. Corrimientos químicos. Parámetro Auger. Forma de las estructuras y su análisis. Efectos químicos y estructurales.

 

4. Instrumentación XPS

Analizadores. Transmisión. Calibración. Métodos experimentales. Demostración en el Laboratorio.


5. Análisis cuantitativo XPS

Señal intrínseca y pérdidas extrínsecas. Secciones eficaces. Longitud de atenuación. Sensibilidad a la superficie. Referencias internas. Factores de sensibilidad. Efectos de matriz. Efectos químicos y estructurales. Perfiles de concentración no destructivos de la capa analizada. Limitaciones.

 

6. XPS de la banda de valencia

Estructura electrónica y XPS.

 

7. XPS resuelto en ángulo

 

8. Espectroscopía de la emisión Auger excitada por electrones AES

Instrumentación. Efectos del haz de electrones. Secciones eficaces de ionización.

 

9. Análisis cuantitativo AES

Efectos del haz de electrones. Muestras de referencia. Efectos de matriz. Efectos químicos y estructurales. Limitaciones.

 

10. Instrumentación AES

Métodos experimentales. Demostración en el Laboratorio.

 

11. Perfiles de concentración con XPS y AES

 

12. Análisis cuantitativo de nano-estructuras con XPS y AES

 

13. Radiación sincrotrón

Efectos de difracción. Últimos avances en técnicas de fotoemisión.

 

14. Resolución lateral e imágenes en XPS y AES

 

15. Análisis XPS y AES de materiales aislantes

 

16. Efectos del haz de excitación en XPS y AES

 

Prácticas

Instrumentación. Demostración en el Laboratorio.

Determinación de la  composición química y estado químico de los elementos de muestras de interés científico e industrial.

 

Secretaría del curso

INSTITUTO DE CIENCIA DE MATERIALES DE MADRID. CSIC
Teléfono: 913349085
Fax: 913720623
imontero@icmm.csic.es



       

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